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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：一种基板处理装置，用于处理基板，所述基板处理装置具备：基板保持部，其具有保持所述基板的保持面；旋转机构，其以所述基板保持部的旋转轴为中心使所述保持面上的基板旋转；以及激光照射部，其向所述保持面上的所述基板照射激光束，其中，所述基板保持部的所述保持面的直径比所述基板的直径小。
主权项：1.一种基板处理装置，用于处理基板，所述基板处理装置具备：基板保持部，其具有保持所述基板的保持面；旋转机构，其以所述基板保持部的旋转轴为中心使所述保持面上的基板旋转；以及激光照射部，其向所述保持面上的所述基板照射激光束，其中，所述基板保持部的所述保持面的直径比所述基板的直径小。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法
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