龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：中微半导体设备(上海)股份有限公司
摘要：本发明公开了一种等离子体处理装置及基片处理方法，涉及半导体处理技术领域，所述等离子体处理装置包括：反应腔，所述反应腔内设置有一气体喷淋头和一与所述气体喷淋头相对设置的基座，所述气体喷淋头用于向所述反应腔内输送反应气体，所述反应气体在所述反应腔内被激发为等离子体；等离子体约束环，其环绕所述基座设置，用以避免所述等离子体进入抽气通道；抽气装置，对所述反应腔抽气，所述抽气装置的抽气路径经过所述等离子体约束环；还包括：辅助气体通道，用于向所述等离子体约束环所在区域通入电中性气体。本发明既能实现反应腔内达到低气压条件，又能增加等离子体约束环的等离子体约束能力。
主权项：1.一种等离子体处理装置，包括：反应腔，所述反应腔内设置有一气体喷淋头和一与所述气体喷淋头相对设置的基座，所述气体喷淋头用于向所述反应腔内输送反应气体，所述反应气体在所述反应腔内被激发为等离子体；等离子体约束环，其环绕所述基座设置，用以避免所述等离子体进入抽气通道；抽气装置，对所述反应腔抽气，所述抽气装置的抽气路径经过所述等离子体约束环；其特征在于，还包括：辅助气体通道，用于向所述等离子体约束环所在区域通入电中性气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中微半导体设备(上海)股份有限公司 等离子体处理装置及基片处理方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号