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薄膜晶体管及其制造方法 

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申请/专利权人:三星显示有限公司

摘要:提供了一种薄膜晶体管及其制造方法,所述薄膜晶体管包括:基底;半导体层,设置在基底上方;栅极绝缘膜,设置在半导体层上方;以及栅电极。半导体层包括沟道区、源区和漏区。栅极绝缘膜包括第一区和第二区。第二区与第一区接界。栅电极设置在第一区上方。台阶形状形成在第二区和第一区相接处。

主权项:1.一种显示设备,所述显示设备包括:基底;缓冲层,设置在所述基底上;薄膜晶体管,设置在所述缓冲层上;以及显示元件,连接到所述薄膜晶体管,其中,所述薄膜晶体管包括:半导体层,设置在所述缓冲层上,被图案化为暴露所述缓冲层的上表面,并且包括包含铟、镓和锌中的至少一种的氧化物半导体材料;栅极绝缘膜,设置在所述半导体层上,并且包括第一区和第二区,所述第二区从所述第一区的侧面延伸;以及栅电极,设置在所述栅极绝缘膜的所述第一区上,其中,所述第一区的厚度与所述第二区的厚度不同以形成台阶,所述台阶在平面图中与所述栅电极的端部间隔开,并且其中,所述栅极绝缘膜暴露所述半导体层的两端。

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