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申请/专利权人：济南日观科技有限公司
摘要：本发明公开了一种大规模集成电路版图密度检查并行处理方法，所属的技术领域是集成电路计算机辅助设计领域，尤其是涉及集成电路版图的设计规则检查DRC和版图与原理图的一致性检查LVS领域。本发明创造性地提出了基于检查范围和窗口并行法，用于解决大规模集成电路版图验证过程中面临检查耗时过长，验证效率低的问题。实际应用中表明，该并行处理方案能够在用户可接受的时间内解决超大规模版图进行密度检查的问题。
主权项：1.一种大规模集成电路版图密度检查并行处理方法，其特征在于：包括检查范围并发处理：密度检查可能存在多个检查范围，如果存在多个检查范围，使用多线程并发检查，最后汇总所有检查范围的输出结果，作为密度检查的结果；具体步骤为：1集成电路版图的设计规则检查软件DRC中，根据密度校验的规则和集成电路数据，获得检查范围；2如果存在多个检查范围，则使用线程进行并发处理：开启线程池，将检查范围平均分配到不同的线程中进行处理；3每个线程只处理被分配到的搜索范围，并做如下处理；按照检查规则的参数，将检查范围划分成窗口；遍历处理每个窗口，计算出窗口中的密度表达式的结果，保存密度表达式结果，并校验密度表达式结果是否满足密度约束条件；4全部线程处理完成后，获得全部窗口中的密度值、是否满足密度约束条件；5如果规则中要求进行密度梯度检查，则通过相邻窗口之间的密度，计算出密度梯度，并校验密度梯度是否满足密度梯度约束条件；6遍历窗口的检查结果，输出同时满足密度约束条件和密度梯度约束条件的窗口；一个检查范围可能包含大量的窗口；在检查范围的处理中，并发处理窗口；具体步骤为；1根据检查范围、窗口的大小、窗口的移动步长、边缘处理方式划分出窗口；2将窗口平均分配到线程中，每个线程中处理分配给本线程的窗口；3每个窗口处理中，计算出密度表达式的结果，判断是否符合密度约束条件，并记录密度表达式结果和密度约束条件校验结果。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 济南日观科技有限公司 一种大规模集成电路版图密度检查并行处理方法
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