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申请/专利权人：南京航空航天大学无锡研究院
摘要：本发明提供一种具有梯度结构的Si‑Hf‑Y粘结层的制备方法及其应用，属于涂层制备技术领域，制备方法包括以下步骤：步骤S1.将基体进行表面处理和清洗；步骤S2.通过双层辉光等离子表面冶金工艺在基体表面制备Si‑Hf‑Y沉积层，得到复合层；步骤S3.将复合层进行真空热处理，使得基体和Si‑Hf‑Y沉积层之间形成扩散层，得到Si‑Hf‑Y粘结层。本发明的具有梯度结构的Si‑Hf‑Y粘结层的制备方法及其应用，Si粘结层中添加一定量的活性元素Hf和Y，一方面Hf降低氧化速率，稀土元素Y可以起到氧化物钉扎和细化晶粒的作用使得粘结层更致密；另一方面，采用双层辉光等离子表面冶金工艺制备可以提高粘结层和基体的结合强度。
主权项：1.一种具有梯度结构的Si-Hf-Y粘结层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤S1.将基体进行表面处理和清洗；步骤S2.通过双层辉光等离子表面冶金工艺在基体表面制备Si-Hf-Y沉积层，得到复合层；步骤S3.将复合层进行真空热处理，使得基体和Si-Hf-Y沉积层之间形成扩散层，得到Si-Hf-Y粘结层。
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百度查询： 南京航空航天大学无锡研究院 一种具有梯度结构的Si-Hf-Y粘结层的制备方法及其应用
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