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申请/专利权人：深圳润昕半导体有限公司
摘要：本申请提供一种金属双面刻蚀装置，该刻蚀装置包括反应缸、挂架组件以及至少两个喷嘴部件；反应缸内用于容设刻蚀液；挂架组件设于反应缸内，挂架组件用于固定待刻蚀基板；挂架组件被配置为在挂架组件固定待刻蚀基板的情况下，待刻蚀基板高于刻蚀液的液面；至少两个喷嘴部件相对间隔设置，挂架组件设置在至少两个喷嘴部件之间；喷嘴部件用于喷射刻蚀液至待刻蚀基板上；也就是说，本申请中的金属双面刻蚀装置能够通过相对间隔设置的至少两个喷嘴部件对待刻蚀基板的两侧进行刻蚀液的喷射，以实现对待刻蚀基板的双面进行同时刻蚀，进而有利于提高刻蚀的效率和质量。
主权项：1.一种金属双面刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置包括：反应缸，所述反应缸内用于容设刻蚀液；挂架组件，设于所述反应缸内，所述挂架组件用于固定待刻蚀基板；所述挂架组件被配置为在所述挂架组件固定所述待刻蚀基板的情况下，所述待刻蚀基板高于所述刻蚀液的液面；至少两个喷嘴部件，所述至少两个喷嘴部件相对间隔设置，所述挂架组件设置在所述至少两个喷嘴部件之间；所述喷嘴部件用于喷射刻蚀液至所述待刻蚀基板上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳润昕半导体有限公司 一种金属双面刻蚀装置
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