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申请/专利权人:联华电子股份有限公司
摘要:本发明提供一种光刻机台系统及其液体存储槽的漏液检测方法,其中该光刻机台系统包括:浸润光刻机台以及流体供应装置以及传感器。所述流体供应装置,供应液体给所述浸润光刻机台。所述流体供应装置包括至少一液体存储槽、连接所述液体存储槽的上液体管以及下液体管。传感器包括至少一液压计。所述至少一液压计,设置于所述液体存储槽的下部附近,连接所述下液体管与所述上液体管,用以测量所述液体存储槽的底部液压。所述液体存储槽的液面高度由所述液压计算出来。
主权项:1.一种光刻机台系统,其特征在于,包括:浸润光刻机台;以及流体供应装置,供应液体给所述浸润光刻机台,包括至少一液体存储槽、连接所述液体存储槽的上液体管以及下液体管;以及传感器,包括至少一液压计,其中所述至少一液压计设置于所述液体存储槽的下部附近,连接所述下液体管与所述上液体管,用以测量所述液体存储槽的底部液压,其中所述液体存储槽的液面高度由所述液压计算出来。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 联华电子股份有限公司 光刻机台系统及其液体存储槽的漏液检测方法
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