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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
摘要：本公开实施例涉及一种集成电路标准单元的布局结构，包括：设置于器件层的第一导电类型晶体管组和第二导电类型晶体管组；第一导电类型晶体管组与第二导电类型晶体管组沿第一方向间隔布置；设置于第一金属层的第一输入金属线和第一输出金属线，第一输入金属线以及第一输出金属线均与第一导电类型晶体管组和第二导电类型晶体管组电连接；第一输入金属线在器件层的正投影位于第一导电类型晶体管组和第二导电类型晶体管组之间；设置于第二金属层的第二输入金属线和第二输出金属线，第二输入金属线与第一输入金属线电连接，第二输出金属线与第一输出金属线电连接；第一金属层位于器件层与第二金属层之间。
主权项：1.一种集成电路标准单元的布局结构，其特征在于，包括：设置于器件层的第一导电类型晶体管组和第二导电类型晶体管组；所述第一导电类型晶体管组与所述第二导电类型晶体管组沿第一方向间隔布置；设置于第一金属层的第一输入金属线和第一输出金属线，所述第一输入金属线以及所述第一输出金属线均与所述第一导电类型晶体管组和所述第二导电类型晶体管组电连接；所述第一输入金属线在所述器件层的正投影位于所述第一导电类型晶体管组和所述第二导电类型晶体管组之间；设置于第二金属层的第二输入金属线和第二输出金属线，所述第二输入金属线与所述第一输入金属线电连接，所述第二输出金属线与所述第一输出金属线电连接；所述第一金属层位于所述器件层与所述第二金属层之间。
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权利要求：
百度查询： 长鑫存储技术有限公司 集成电路标准单元的布局结构
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