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检查衬底的方法、量测设备和光刻系统 

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申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

摘要:公开了检查衬底的方法、量测设备和光刻系统。在一种布置中,检查衬底。由辐射源发射的源辐射光束被分成测量光束和参考光束。用测量光束照射第一目标,第一目标在衬底上。用参考光束照射第二目标,第二目标与衬底分离。从第一目标收集第一散射辐射并将其递送到检测器。从第二目标收集第二散射辐射并将其递送到检测器。在检测器处第一散射辐射与第二散射辐射干涉。第一目标包括第一图案。第二目标包括第二图案或第二图案的光瞳平面图像。第一图案在几何上与第二图案相同,第一图案和第二图案是周期性的并且第一图案的节距与第二图案的节距相同,或两者兼而有之。

主权项:1.一种检查衬底的方法,所述方法包括:通过分束器将由辐射源发射的源辐射光束分成测量光束和参考光束;用所述测量光束照射第一目标,所述第一目标在所述衬底上;用所述参考光束照射第二目标,所述第二目标与所述衬底分离;通过所述分束器从所述第一目标收集第一散射辐射,并将所述第一散射辐射递送到检测器;和通过所述分束器从所述第二目标收集第二散射辐射,并将所述第二散射辐射递送到所述检测器,其中:在所述检测器处所述第一散射辐射与所述第二散射辐射干涉;所述第一目标包括第一图案,并且所述第一散射辐射包括来自所述第一图案的第一贡献;所述第二目标包括第二图案或所述第二图案的光瞳平面图像,并且所述第二散射辐射包括来自所述第二图案或所述第二图案的所述光瞳平面图像的第二贡献;以及将时变相位调制应用于所述第二散射辐射;基于所述第一贡献和所述第二贡献生成干涉图案。

全文数据:

权利要求:

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