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申请/专利权人：四方光电(武汉)仪器有限公司
摘要：本实用新型公开了一种可清洗气体吸收池，涉及气体吸收池技术领域，包括气体吸收池体，其两端均设有反射镜，两反射镜相对设置，气体吸收池体两端上部分别设有注入口；两窗口镜，其分别设置于气体吸收池体的两端，每一窗口镜位于一反射镜内侧，且位于一注入口的外侧，两窗口镜将气体吸收池体两端隔开。本实用新型通过设置两个窗口镜，将气体吸收池体与反射镜隔离，避免了气体吸收池体内部的污染物对反射镜的金属镀层造成破坏，并且可以直接向气体吸收池体内部注入清洗溶液对窗口镜清洗，还可以打开窗口，对窗口镜擦拭清洁，在窗口镜长时间使用损坏后，可以对窗口镜直接进行拆卸更换，可以有效保护反射镜，极大延长气体吸收池的寿命。
主权项：1.一种可清洗气体吸收池，其特征在于，包括：气体吸收池体1，其两端均设有反射镜9，两所述反射镜9相对设置，所述气体吸收池体1两端上部分别设有注入口；两窗口镜5，其分别设置于所述气体吸收池体1的两端，每一所述窗口镜5位于一所述反射镜9内侧，且位于一所述注入口的外侧，两所述窗口镜5将所述气体吸收池体1两端隔开，两所述窗口镜5倾斜设置且相对一竖直平面对称设置，以使入射光线射入一所述窗口镜5的方向与出射光线射出另一所述窗口镜5的方向一致。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 四方光电(武汉)仪器有限公司 一种可清洗气体吸收池
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