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用于制造纹理化玻璃制品的蚀刻剂 

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申请/专利权人:康宁公司

摘要:一种蚀刻剂包括:大于或等于20wt%且小于或等于45wt%的二氟化铵;大于或等于0.25wt%且小于或等于10wt%的硅化合物;大于或等于5wt%且小于或等于30wt%的氢氯酸;大于或等于25wt%且小于或等于60wt%的水;以及大于或等于0.5wt%且小于或等于20wt%的多元醇。所述硅化合物包括硅石、硅凝胶、六氟硅酸铵、六氟硅酸钾、六氟硅酸钠、六氟硅酸镁或前述项的组合。

主权项:1.一种蚀刻剂,包含:大于或等于20wt%且小于或等于45wt%的二氟化铵;大于或等于0.25wt%且小于或等于10wt%的硅化合物,所述硅化合物包含硅石、硅凝胶、六氟硅酸铵、六氟硅酸钾、六氟硅酸钠、六氟硅酸镁、或前述项的组合;大于或等于5wt%且小于或等于30wt%的氢氯酸;大于或等于25wt%且小于或等于60wt%的水;以及大于或等于0.5wt%且小于或等于20wt%的多元醇。

全文数据:

权利要求:

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