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申请/专利权人：艾克斯特朗欧洲公司
摘要：本发明涉及一种为基板22涂覆至少一个层23至31的方法，其中，在层23至31的沉积期间通过至少一个光学测量装置10、11在该层23至31上反复地相继地确定多个测量值对{UE,n,UR,n}，这些测量值对分别包含发射率值UE和反射率值UR，所述发射率值对应于在光波长下测得的辐射功率，所述反射率值也在光波长下测得，其中，由这些测量值对{UE,n,UR,n}和先前确定的校正值γ计算出基板温度的温度值TC，利用这些实际值相对于额定值s对用于对基板22调温的调温装置5、6'进行调节。为了改进校正系数的确定，在此建议，在测量期间在多个k测量区间ti内分别测量至少两个测量值对{UE,n,UR,n}，并且针对这些测量区间ti中的每一个确定与温度相关的系数CiTi，将该系数用于计算所述校正值γ。
主权项：1.一种为基板22涂覆至少一个层23至31的方法，其中，在层23至31的沉积期间通过至少一个光学测量装置10、11在该层23至31上反复地相继地确定多个测量值对{UE,n,UR,n}，这些测量值对分别包含发射率值UE和反射率值UR，所述发射率值对应于在光波长下测得的辐射功率，所述反射率值也在光波长下测得，其中，由这些测量值对{UE,n,UR,n}和先前确定的校正值γ计算出基板温度的温度值TC，其特征在于，在测量持续期间在多个k测量区间ti内分别测量至少两个测量值对{UE,n,UR,n}，并且针对这些测量区间ti中的每一个确定与温度相关的系数CiTi，将所述系数用于计算所述校正值γ。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾克斯特朗欧洲公司 发射率校正的高温测定法
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