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申请/专利权人:全磊光电股份有限公司
摘要:本公开提供了一种垂直腔面发射激光器及其制造方法。该垂直腔面发射激光器包括依次层叠设置的第一反射镜、有源区、氧化限制结构以及第二反射镜,氧化限制结构包括至少一层氧化抑制层和至少一层氧化层,氧化抑制层和氧化层沿着第一反射镜至第二反射镜的方向层叠设置,且氧化层与有源区之间以至少一层氧化抑制层相间隔,氧化抑制层用于抑制氧元素的扩散。该垂直腔面发射激光器的可靠性能够得到提高。
主权项:1.一种垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括依次层叠设置的第一反射镜、有源区、氧化结构以及第二反射镜,所述氧化结构包括至少一层氧化抑制层和至少一层氧化层,所述氧化抑制层和所述氧化层沿着所述第一反射镜至所述第二反射镜的方向层叠设置,且所述氧化层与所述有源区之间以至少一层所述氧化抑制层相间隔,所述氧化抑制层用于抑制氧元素的扩散。
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