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申请/专利权人：中国计量科学研究院
摘要：本发明提供一种发射率测量方法、装置、系统、设备及介质，属于光辐射度量技术领域，该方法包括：在待测热辐射体达到第一温度时，获取待测热辐射体的第一辐射参数和对照辐射体的第一对照辐射参数；在待测热辐射体达到第二温度时，获取待测热辐射体的第二辐射参数和对照辐射体的第二对照辐射参数；利用第一辐射参数、第一对照辐射参数、第二辐射参数和第二对照辐射参数确定待测热辐射体的发射率。本发明解决了现有技术中待测热辐射体的发射率值、以及环境辐射值都可能发生较明显变化，导致计算结果偏差较大的问题，使得待测热辐射体的发射率值和环境辐射值的变化都控制在较小的范围内，更易获得接近于真实发射率的值。
主权项：1.一种发射率测量方法，其特征在于，所述方法包括：在待测热辐射体达到第一温度时，获取所述待测热辐射体的第一辐射参数和第一对照参数；在所述待测热辐射体达到第二温度时，获取所述待测热辐射体的第二辐射参数和第二对照参数；利用所述第一辐射参数、所述第一对照参数、所述第二辐射参数和所述第二对照参数确定所述待测热辐射体的发射率。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国计量科学研究院 发射率测量方法、装置、系统、设备及介质
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