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申请/专利权人:苏州坤力美海科技有限公司
摘要:本发明提出了一种基于石墨烯场效应的晶体管‑DNA传感器及其在检测汞离子中的应用,该种传感器通过CVD方法制备石墨烯,利用PMMA作为转移介质,结合FeCl3溶液的腐蚀作用,高效地将石墨烯从铜基底转移到硅氧化片上,通过RIE反应离子刻蚀技术精确地刻蚀出所需的石墨烯条带,通过电阻蒸发镀膜机蒸镀金电极,通过控制蒸镀的厚度和形貌,确保传感器良好的电学接触和长期稳定性。本方法通过刻蚀后石墨烯条带边缘的羧基结合氨基修饰的DNA,构建出新型的石墨烯‑DNA传感器,以此制备专用的传感器结构,通过锁相放大器对这一传感器加入Hg2+后反应的动力学行为进行了监测,该种传感器对Hg2+离子高度灵敏的检测能力,其检测限制低至0.438pM,极大的增强了现有的技术水平。
主权项:1.基于石墨烯场效应的晶体管-DNA传感器,其特征在于,制备过程包括以下步骤:S1、石墨烯层的制备:制备条状的基底材料,并通过CVD法,将石墨烯沉积生长在基地材料的表面;S2、石墨烯层的获取:通过PMMA涂覆的方式,对石墨烯层进行支撑;再通过腐蚀的方法对基底材料进行侵蚀,侵蚀完成后,将石墨烯层从溶液中提出,并置于硅片的上表面,后续再通过溶液将表面的PMMA去除;S3、反应离子的刻蚀:通过微电子干法腐蚀工艺对石墨烯进行处理,用于在石墨烯的表面刻蚀出指定的形状特征;S4、蒸镀金电极:通过掩膜版,蒸镀金属薄膜;S5、完成DAN生物传感器的制备:将石墨烯条带边缘的羧基用EDCNHS活化后,使氨基修饰的DNA4通过与羧基的连接反应而使DNA4与石墨烯相连接,从而制备出基于石墨烯场效应的晶体管-DNA传感器。
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