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申请/专利权人：广州天赐高新材料股份有限公司
摘要：本申请提供了一种电解液添加剂、电解液及电化学装置，电解液添加剂包括式1所示化合物和式2所示化合物，式2所示化合物选自式2‑A所示化合物和式2‑B所示化合物中的至少一种。通过上述设置，本申请的式1所示化合物和式2所示化合物搭配用作电解液添加剂时，有利于在负极界面形成稳定的固体电解质界面膜，同时还有利于在正极界面形成稳定的正极电解质界面膜，提高正极和负极界面的稳定性，减少电解液与电极活性材料间发生副反应，有效抑制电解液的进一步分解，减少产气，减小电化学装置的内阻增长率，改善电化学装置的高温循环性能和高温存储性能。
主权项：1.一种电解液添加剂，其包括式1所示化合物和式2所示化合物，所述式2所示化合物选自式2-A所示化合物和式2-B所示化合物中的至少一种： ；其中m和n各自独立地选自0至3的整数，且m和n不同时为0，p选自1至5的整数，R0选自单键或亚甲基，R1选自氢、卤素、C1~C5的烃基或C1~C5的卤代烃基，R2、R3、R4各自独立地选自或中的一种；R5、R6各自独立地选自经取代或未经取代的苯基、取代或未取代的咪唑基、经取代或未经取代的C1~C5烷基、经取代或未经取代的C2~C5烯基、C1~C5烷氧基、经取代或未经取代的C2~C5烷氧基烷基、经取代或未经取代的C1~C5羰基、经取代或未经取代的C1~C5氰基、卤素，当经取代时，取代基各自独立地选自卤素、C1~C5烷基；R7、R9各自独立地选自卤素、经取代或未经取代的C1~C5烷基，R8选自经取代或未经取代的亚苯基、经取代或未经取代的C1~C5亚烷基、C2~C5亚烯基、C2~C5亚炔基、C2~C5亚烷氧基亚烷基，当经取代时，取代基各自独立地选自卤素、羟基、苯基；其中，所述式1所示化合物与所述式2所示化合物的质量比为（0.1~16）:1；基于电解液的质量，所述式1所示化合物的质量百分含量为C1%，0.05≤C1≤8，或，基于电解液的质量，所述式2所示化合物的质量百分含量为C2%，0.1≤C2≤5。
全文数据：
权利要求：
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