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申请/专利权人：科磊股份有限公司
摘要：一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
主权项：1.一种用于计量的方法，其包括：引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征；在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生，其中捕获所述序列的所述图像包括使用相互配准的第一相机及第二相机捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的第一图像及第二图像，且其中捕获所述第一图像及所述第二图像包括将配准图像朝向所述第一相机及所述第二相机投影，且相对于所述配准图像配准所述第一相机及所述第二相机；处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化，其中处理所述图像包括通过将所述第一图像与所述第二图像进行比较而测量所述对称中心的所述变化；及在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用所述变化。
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