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申请/专利权人：华林科纳(江苏)半导体设备有限公司
摘要：本发明公开了一种硅片超声波清洗机，属于半导体清洗设备技术领域，该硅片超声波清洗机，包括支撑机构，所述支撑机构中心一侧固定连接有上料架，所述支撑机构中心固定安装有清洗机构，所述支撑机构中心另一侧固定连接有下料架；所述清洗机构中心一侧安装有升降机构，所述清洗机构中心另一侧固定安装有烘干机构，所述上料架和清洗机构上均设有清洗篮。本发明通过设计升降机构和钩起机构，在对硅片进行超声波清洗时，通过升降机构升降往复移动，使得清洗液更好的接触硅片，能够让硅片的不同角度进行清洗，同时钩起机构可以进行转动，能够对硅片与清洗篮的死角处进行清洗，大大提高了对硅片的清洗范围以及清洗质量。
主权项：1.一种硅片超声波清洗机，包括支撑机构（1），其特征在于：所述支撑机构（1）中心一侧固定连接有上料架（2），所述支撑机构（1）中心固定安装有清洗机构（3），所述支撑机构（1）中心另一侧固定连接有下料架（4）；所述清洗机构（3）中心一侧安装有升降机构（5），所述清洗机构（3）中心另一侧固定安装有烘干机构（6），所述上料架（2）和清洗机构（3）上均设有清洗篮（7），两个所述清洗篮（7）上均设有若干个硅片主体（8）；所述支撑机构（1）上滑动连接有左右移动机构（9），所述左右移动机构（9）上安装有上下移动机构（10），所述上下移动机构（10）的底部安装有钩起机构（11）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华林科纳(江苏)半导体设备有限公司 一种硅片超声波清洗机
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