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申请/专利权人：清华大学
摘要：本发明公开了一种用于清洗表面有机物和金属氧化物的等离子体处理装置，其包括第一壳体、供气组件、抽气组件和等离子体发生组件，第一壳体具有内腔；供气组件用于向内腔中输送工作气体；抽气组件用于抽排内腔中的气体；等离子体发生组件包括功率源和线圈，线圈设在内腔中，功率源与线圈连接，等离子体发生组件利用微波源通过电感耦合放电方式使通入内腔中的工作气体产生等离子体，提高等离子体密度和清洗效果，避免对物品表面造成的破坏。本发明还通过设置压力控制组件、加热组件和光纤光谱仪，能够对内腔中的气压、温度、电子密度等反应参数进行监控和调节，优化和提高等离子体清洗的效果，并为等离子体清洗技术的研究提供技术支持。
主权项：1.一种用于清洗表面有机物和金属氧化物的等离子体处理装置，其特征在于，包括：第一壳体，所述第一壳体具有内腔；供气组件，所述供气组件与所述内腔连通，用于向所述内腔中输送工作气体；抽气组件，所述抽气组件与所述内腔连通，用于抽排所述内腔中的气体；等离子体发生组件，所述等离子体发生组件包括功率源和线圈，所述线圈设在所述内腔中，所述功率源与所述线圈连接，所述等离子体发生组件用于通过电感耦合放电方式使通入所述内腔中的所述工作气体产生等离子体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 清华大学 用于清洗表面有机物和金属氧化物的等离子体处理装置
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