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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
摘要：本公开实施例提供了一种光斑掩膜结构及其形成方法、激光器装置及激光处理方法，其中，光斑掩膜结构的一个或两个顶角区域为无激光能量区域，且多个光斑掩膜结构能够设置为密铺的形状。
主权项：1.一种光斑掩膜结构，其特征在于，包括：所述光斑掩膜结构的一个或两个顶角区域为无激光能量区域；多个所述光斑掩膜结构设置为密铺的形状。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 长鑫存储技术有限公司 光斑掩膜结构及其形成方法、激光器装置及激光处理方法
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