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申请/专利权人：科磊股份有限公司
摘要：本发明提供用于光源在空腔中的压力控制的方法及系统。一个系统包含经配置用于测量光源在空腔中的压力的气压传感器。所述系统还包含经配置用于控制所述空腔中的一或多个气体的量的一或多个气流元件。另外，所述系统包含经配置用于比较所述经测量压力与所述压力的值的预定范围且当所述经测量压力在所述预定范围之外时基于所述比较的结果更改所述一或多个气流元件中的至少一者的参数的控制子系统。
主权项：1.一种经配置以进行光源在空腔中的压力控制的系统，其包括：气压传感器，其经配置用于测量光源在空腔中的压力；一或多个气流元件，其经配置用于控制所述空腔中的一或多个气体的量，其中所述一或多个气流元件包括：第一气流导管，其耦合到所述空腔及清洁干燥空气源；及第二气流导管，其耦合到所述空腔及排放口，其中所述第一及第二气流导管、所述清洁干燥空气源及所述排放口经配置以引起所述空腔中的正压，且所述一或多个气流元件进一步包括耦合到所述空腔的冲洗导管及耦合到所述冲洗导管的比例阀；及控制子系统，其经配置用于比较经测量的所述压力与所述压力的值的预定范围且当经测量的所述压力在所述预定范围之外时基于所述比较的结果更改所述一或多个气流元件中的至少一者的参数，其中由所述控制子系统更改的所述参数包括所述比例阀的参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 科磊股份有限公司 光源在空腔中的压力控制
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