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申请/专利权人:苏州敏芯微电子技术股份有限公司
摘要:本申请的实施例公开了一种加速度传感器结构及其制造方法、加速度传感器,其中加速度传感器结构包括:衬底层;结构层,其设置在衬底层的一侧,结构层包括支撑框架部和活动质量块,所示支撑框架部与活动质量块相分离;支撑结构,其支撑连接支撑框架部和衬底层,支撑框架部包括依次层叠的支撑牺牲部、支撑保护部和支撑绝缘部;在衬底层的厚度方向上,支撑绝缘部以及支撑保护部的正投影均与活动质量块的正投影相交叠。根据本申请,其在支撑结构中增加了支撑保护部,以扩大导电层对支撑绝缘部的保护面积,减少了绝缘层在释放工艺中被释放的面积,进而避免了用以支撑连接电极的绝缘层被过渡刻蚀而影响电极的固定效果,提高产品的稳定性。
主权项:1.一种加速度传感器结构,其特征在于,包括:衬底层(310);导电层(330),所述导电层(330)包括导电部(331)和支撑保护部(334),所述支撑保护部(334)在所述导电层(330)所在平面内环绕所述导电部(331)设置;结构层(350),所述结构层(350)设置在所述衬底层(310)的一侧,所述结构层(350)包括支撑框架部(351)和活动质量块(354),所示支撑框架部(351)与所述活动质量块(354)相分离;支撑结构,所述支撑结构支撑连接所述支撑框架部(351)和所述衬底层(310),所述支撑框架部(351)包括依次层叠的支撑牺牲部(341)、支撑保护部(334)和支撑绝缘部(321),所述支撑绝缘部(321)支撑连接在所述支撑保护部(334)和所述衬底层(310)之间,所述支撑牺牲部(341)设置在所述支撑保护部(334)朝向所述结构层(350)的一侧;其中,在所述衬底层(310)的厚度方向上,所述支撑绝缘部(321)以及所述支撑保护部(334)在所述衬底层(310)上的正投影均与所述活动质量块(354)在所述衬底层(310)上的正投影相交叠,所述支撑牺牲部(341)在所述衬底层(310)上正投影与所述活动质量块(354)在所述衬底层(310)上的正投影相隔离。
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权利要求:
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