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申请/专利权人：工程吸气公司
摘要：一种用于制造微电子装置、微光电装置或微机械装置的包括基底和集成涂覆吸气剂膜的基板，其中所述吸气剂膜的组成包含65原子％至80原子％的量的Zr、15原子％至25原子％的量的V、2原子％至15原子％的量的选自Al与Fe中的第三元素，以及吸气剂膜结构的特征在于表面粗糙度值为2nm至20nm。
主权项：1.一种用于制造微电子装置的包括基底和集成吸气剂膜的基板，其中所述吸气剂膜由以下组成：-65原子％至80原子％的量的Zr，-15原子％至25原子％的量的V，和-相对于总的吸气剂组成，2原子％至15原子％的量的选自Al与Fe中的第三元素，以及总百分比小于1原子％的可以存在于所述吸气剂组成中的其他化学元素的杂质，其特征在于，所述吸气剂膜的表面粗糙度值为2nm至20nm，优选为2nm至8nm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 工程吸气公司 用于制造微电子装置的包括基底和集成吸气剂膜的基板
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