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申请/专利权人:滁州爱沃富光电科技有限公司
摘要:本发明公开了一种PECVD镀膜工艺及镀膜系统,涉及镀膜技术领域,具体包括镀膜室,镀膜室内部顶面固定安装有若干个相互平行的电极板,镀膜室顶面设置有进气口,镀膜室底面设置有出气口;还包括平移座,平移座上固定安装有若干个相互平行的载板;载板上设置有若干个固定单元,每个固定单元均对两个晶片进行固定;固定单元包括三个与载板转动配合的转轴,转轴两端均固定套设有凸轮,凸轮远离载板的一侧端面上均固定安装有挡片;载板侧壁上对应每个固定单元的位置均开设有凹槽,凹槽内水平滑动安装有活塞板。本发明中,对电极板通电后,晶片的表面各处均能够得到镀膜,镀膜完成后无需对晶片边缘进行打磨抛光,既节省了工序,又避免了原材料浪费。
主权项:1.一种PECVD镀膜系统,包括镀膜室1,镀膜室1内部顶面固定安装有若干个相互平行的电极板2,镀膜室1顶面设置有进气口101,镀膜室1底面设置有出气口102;还包括平移座3,平移座3上固定安装有若干个相互平行的载板4,其特征在于,所述载板4上设置有若干个固定单元,每个固定单元均对两个晶片进行固定;固定单元包括三个与载板4转动配合的转轴5,转轴5两端均固定套设有凸轮6,凸轮6远离载板4的一侧端面上均固定安装有挡片7;载板4侧壁上对应每个固定单元的位置均开设有凹槽401,凹槽401内水平滑动安装有活塞板8。
全文数据:
权利要求:
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