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龙图腾网恭喜亿明达股份有限公司申请的专利用于基底上的单分子放置的组合物和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114438172B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210176285.9，技术领域涉及：C12Q1/6837；该发明授权用于基底上的单分子放置的组合物和方法是由K.L.冈德森;J.白;B.博亚诺夫设计研发完成，并于2015-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于基底上的单分子放置的组合物和方法在说明书摘要公布了：提供了用于基底上的单分子放置的组合物和方法。本文中提供了用于将单一靶分子置于图案化基底上的方法和组合物。

本发明授权用于基底上的单分子放置的组合物和方法在权利要求书中公布了：1.基底，其包含：a.固定化到所述基底上的特征feature的多个第一和第二捕捉引物；b.至少一个双链靶多核苷酸，一个末端附着到所述捕捉引物之一而另一个末端与靶分子连接，其中所述双链靶多核苷酸包含侧翼有与所述第一和第二捕捉引物互补的第一和第二捕捉引物结合区的靶区域，其中所述双链靶多核苷酸的第二链与靶分子连接，且其中所述双链靶多核苷酸的第一链的第一捕捉引物结合区与所述第一捕捉引物相同，所述双链靶多核苷酸的第一链的第二捕捉引物结合区与所述第二捕捉引物是100％互补的，且其中所述双链靶多核苷酸的第二链的第一捕捉引物结合区与所述第一捕捉引物是100％互补的，所述双链靶多核苷酸的第二链的第二捕捉引物结合区含有与所述第二捕捉引物的至少一个核苷酸差异，使得所述双链靶多核苷酸中的所述第二捕捉引物结合区含有碱基对错配，并且c.与固定化到所述特征的所述靶多核苷酸互补的多个克隆扩增子；其中所述基底包含由缺少靶多核苷酸的间隙区域分开的多个特征；且其中所述靶分子包括分析物。

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