信利光电股份有限公司何伟伟获国家专利权
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龙图腾网获悉信利光电股份有限公司申请的专利一种利于排除气泡的保护膜结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222630050U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421417098.6，技术领域涉及：B65D65/26；该实用新型一种利于排除气泡的保护膜结构是由何伟伟设计研发完成，并于2024-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种利于排除气泡的保护膜结构在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种利于排除气泡的保护膜结构，包括保护膜，所述保护膜包括有保护膜本体、离型膜一与离型膜二；所述离型膜一贴附在保护膜本体的一侧，所述离型膜二贴附在保护膜本体的另一侧；所述保护膜本体表面且靠近中部的位置处设置有多个消泡切口A，消泡切口A切割而成，该消泡切口A有两条边且形成尖角形状、尖角从左至右逐渐缩小，通过在保护膜本体靠近中间的位置设计多个消泡切口A，当保护膜本体贴在盖板本体上存在气泡时，可通过推动气泡从任意一个消泡切口A处排出，操作更加简单，气泡的活动距离更短，更容易完全排出，从而能够代替目前在盖板本体上增加AF表面处理的方案。
本实用新型一种利于排除气泡的保护膜结构在权利要求书中公布了：1.一种利于排除气泡的保护膜结构，其特征在于，包括保护膜，所述保护膜包括有保护膜本体1、离型膜一2与离型膜二3；所述离型膜一2贴附在保护膜本体1的一侧，所述离型膜二3贴附在保护膜本体1的另一侧；所述保护膜本体1表面且靠近中部的位置处设置有多个消泡切口A4，所述消泡切口A4处形成有遮挡片A5。
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