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龙图腾网恭喜南京工业大学申请的专利一种用于润湿模式下吸收低浓度气体的多通道陶瓷膜传质性能预测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117350045B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311294983.X，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权一种用于润湿模式下吸收低浓度气体的多通道陶瓷膜传质性能预测方法是由符开云;张慧平;郭云昭;邱鸣慧;陈献富;范益群设计研发完成，并于2023-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于润湿模式下吸收低浓度气体的多通道陶瓷膜传质性能预测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于润湿模式下吸收低浓度气体的多通道陶瓷膜传质性能预测方法，属于分离低浓度气体技术领域，更属于膜结构计算领域。传统的膜吸收主要以疏水膜吸收为主，但当存在膜润湿时会导致吸收阻力显著增大，因此提出在润湿模式下进行吸收以增强膜接触器吸收能力。对于针对传统的一维和二维建模方法无法对具有复杂几何结构的多通道陶瓷膜的传质性能进行模拟研究，该方法通过建立一个三维简化模型来预测不同结构的多通道陶瓷膜传质性能，进而对多通道陶瓷膜的构型进行优化，结果发现简化模型和原三维模型计算结果平均误差小于3％，证明该模型可行性。

本发明授权一种用于润湿模式下吸收低浓度气体的多通道陶瓷膜传质性能预测方法在权利要求书中公布了：1.一种用于润湿模式下吸收低浓度气体的多通道陶瓷膜传质性能预测方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、根据多通道陶瓷膜尺寸构建简化的单管式陶瓷膜的三维几何模型；其中，单管式陶瓷膜的三维几何模型的内径满足下式： 式中，R为单管式陶瓷膜三维几何模型通道半径，mm；r1为多通道式陶瓷膜模型中间通道半径，mm；r2～rn为多通道式陶瓷膜模型其他通道半径，mm；n为多通道陶瓷膜通道数；步骤2、计算校正因子F；与气体反应的液相是膜孔中的吸收剂，吸收剂浓度会影响传质与反应速率，而多通道陶瓷膜中通道的位置以及半径会影响不同通道膜层中吸收剂浓度分布，因此校正因子F的近似解可以类比于无量纲的Hatta数形式，同时作用于吸收剂在亲水膜中膜相的传质系数；校正因子F满足下式： F1代表多通道总传质面积与单管总传质面积对传质速率的影响； F2代表多通道各通道的半径与通道位的置对传质速率的影响； 式中，L1、L2、...、Ln为多通道陶瓷膜模型各通道中心至膜外层边界距离，mm；L为多通道陶瓷膜模型各通道中心至膜外层边界距离的均值，mm；r为多通道陶瓷膜模型外圈通道半径，mm；n为多通道陶瓷膜通道数；a～d均为常数；步骤3、计算传质系数kL；在单管式陶瓷管的三维几何模型中，引入校正因子F来简化模型中吸收剂在亲水膜中膜相的传质系数；传质系数kL满足下式： 式中，DA-Liquid是吸收剂A在液体中的扩散系数，m2·s-1；ε是孔隙率；τ是曲折因子；lm是膜厚，mm；所得传质系数kL即为多通道陶瓷膜的吸收剂传质系数。

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