恭喜圆益QNC股份有限公司刘鈗在获国家专利权
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龙图腾网恭喜圆益QNC股份有限公司申请的专利氟化对象物的氟化加工方法以及由此方法氟化加工的部件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116005129B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211259990.1，技术领域涉及：C23C16/30；该发明授权氟化对象物的氟化加工方法以及由此方法氟化加工的部件是由刘鈗在;吴承泳;崔恩永;张朱希;崔素瑛设计研发完成，并于2022-10-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本氟化对象物的氟化加工方法以及由此方法氟化加工的部件在说明书摘要公布了：本发明涉及一种氟化对象物的氟化加工方法以及由此方法氟化加工的部件，其能够通过基于大气压高频等离子体的氟化物的涂层实现对半导体工艺中的各种部件等的高密度以及高强度的同时显著提高生产率，尤其适用于大面积半导体设备的正常蚀刻率。
本发明授权氟化对象物的氟化加工方法以及由此方法氟化加工的部件在权利要求书中公布了：1.一种氟化对象物的氟化加工方法，其用于氟化氟化对象物表面，其特征在于，包括：第一步骤，在具有等离子体反应空间的处理腔室内放置氟化对象物；第二步骤，在上述处理腔室中导入使用气体，上述使用气体为选自He、Ne、Ar、Kr、Xe中的放电气体、选自O2、N2、空气中的非氟反应气体、选自包括CF4、C2F6、C4F8在内的含氟的氟碳气体或三氟化氮（NF3）气体中的含氟反应气体的混合气体，即，在上述处理腔室中导入上述混合气体；第三步骤，将向上述处理腔室中所导入的上述混合气体引入到上述等离子体反应空间中；以及第四步骤，通过向上述处理腔室施加高频功率，来在上述等离子体反应空间中生成等离子体，并用所生成的含氟自由基气体及等离子体氟化上述氟化对象物的表面，在上述第一步骤至第四步骤中，处理腔室内的气氛形成为大气压气氛，在上述混合气体引入步骤中，作为使用气体引入作为放电气体的氩气体、作为非氟反应气体的氧以及作为含氟反应气体的四氟化碳的混合气体，Ar、O2、CF4的流量比Ar:O2:CF4为25～40:0.1～0.4:0.3～1.0。
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