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申请/专利权人：塞特工业公司
摘要：本文提供了用于制造稳定聚合物制品的聚合物组合物，这些稳定聚合物制品对在暴露于UV‑C190‑280nm光后的变色、开裂或龟裂中的至少一种有害影响具有抗性，其中该聚合物组合物包含：i有机聚合物材料；以及ii稳定剂组合物，其包含：选自由受阻酚、亚磷酸酯和亚膦酸酯及其混合物组成的组的抗氧化剂；以及选自由受阻胺光稳定剂HALS、UV吸收剂UVA、受阻苯甲酸酯及其混合物组成的组的光稳定剂，即使在该稳定剂组合物中不存在钡化合物如钡盐的情况下，并且其前提是该HALS不是单独的癸二酸双2,2,6,6,‑四甲基‑4‑哌啶基酯TINUVINTM770。与在不存在该光稳定剂情况下的该抗氧化剂相比，在暴露于UV‑C光后的减少的变色、开裂或龟裂中的至少一种与该光稳定剂与该抗氧化剂组合使用有关。还提供了通过向有机聚合物材料中添加抗氧化剂和光稳定剂来使这些有机聚合物材料稳定以抵抗UV‑C光的有害影响的方法。
主权项：1.一种用于制造稳定聚合物制品的聚合物组合物，该稳定聚合物制品对在暴露于UV-C190-280nm光后的变色、开裂或龟裂中的至少一种有害影响具有抗性，该聚合物组合物包含：i有机聚合物材料；以及ii稳定剂组合物，其包含：选自由受阻酚、亚磷酸酯和亚膦酸酯及其混合物组成的组的抗氧化剂；以及选自由受阻胺光稳定剂HALS、UV吸收剂UVA、受阻苯甲酸酯及其混合物组成的组的光稳定剂即使在该稳定剂组合物中不存在钡化合物如钡盐的情况下，并且其前提是该HALS不是单独的癸二酸双2,2,6,6,-四甲基-4-哌啶基酯TINUVINTM770。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 塞特工业公司 保护有机聚合物材料免于暴露于UV-C光的有害影响的组合物和方法
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