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【发明公布】一种LT与LN来料裸片涂布工艺_杭州美迪凯光电科技股份有限公司_202311444836.6 

申请/专利权人:杭州美迪凯光电科技股份有限公司

申请日:2023-11-02

公开(公告)日:2024-03-01

公开(公告)号:CN117619689A

主分类号:B05D1/26

分类号:B05D1/26;B08B5/02;B08B3/02;G03F7/16

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.19#实质审查的生效;2024.03.01#公开

摘要:本发明公开了一种LT与LN来料裸片涂布工艺。本发明工艺通过NMP浸泡产生化学反应,改变LTLN表面的性质,提高片子洁净度,减小水滴角,提升旋涂涂胶时对胶的附着力,再通过剥离清洗,使其表面保持干净、干燥,既能解决LT与LN来料裸片旋涂涂胶时涂不满的现象,又能充分提高产品质量和良率。

主权项:1.一种LT与LN来料裸片涂布工艺,其特征是,其工艺步骤为:S1、将LT与LN来料裸片放入去胶机内浸泡槽卡槽内用NMP进行一段时间的浸泡;S2、浸泡结束后,将LT与LN来料裸片输送至剥离腔,在剥离腔中用NMP对LT与LN来料裸片的表面进行剥离,去除表面残留物;S3、将完成步骤S2的LT与LN来料裸片传送至清洗腔,在清洗腔中用IPA与N2通过喷嘴进行冲洗和喷吹,冲洗完成后继续使用DIW通过喷嘴进行冲洗,将表面的NMP残液去除干净;S4、将完成步骤S3的LT与LN来料裸片甩干,并通过旋涂工艺对LT与LN来料裸片进行旋涂,完成整个LT与LN来料裸片涂布工艺。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 一种LT与LN来料裸片涂布工艺

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