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申请/专利权人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
摘要：本发明公开了一种片盒清洗机用CDA供应缓冲装置及方法，包括CDA第一主管道，所述CDA第一主管道的右侧固定设置有第一单向阀，所述第一单向阀的右侧固定设置有缓冲储气罐机构，本发明涉及CDA供应缓冲技术领域。该片盒清洗机用CDA供应缓冲装置及方法，通过第一弧形槽、第二弧形槽、齿盘以及刻度槽之间的相互配合，转动转盘调节调节罩，过程中能观察指针指向的刻度槽，精准地调节第一弧形槽和第二弧形槽的重合面积，从而控制储气腔中CDA排出的速度，避免排出速度过快出现过量补充CDA的情况，从而在特定压力清洗需求下，能精准地调节储气腔向片盒清洗机内供应的CDA量，准确控制片盒清洗机内的CDA压力，满足特定的清洗需要。
主权项：1.一种片盒清洗机用CDA供应缓冲装置，包括CDA第一主管道1，其特征在于：所述CDA第一主管道1的右侧固定设置有第一单向阀2，所述第一单向阀2的右侧固定设置有缓冲储气罐机构3，所述缓冲储气罐机构3的右侧固定设置有第二单向阀4，所述第二单向阀4的右侧固定设置有第一衔接管道5，所述第一衔接管道5的右侧固定连通有三通连接件6，所述三通连接件6的底部固定连通有CDA第二主管道7，所述三通连接件6的右侧固定连通有第二衔接管道8，所述第二衔接管道8的右侧固定设置有片盒清洗机9；所述缓冲储气罐机构3包括方形块31，所述方形块31的左部开设有储气腔32，所述方形块31的右部开设有调节腔33，所述调节腔33的中部左右两侧壁之间设置有供应管组件34，所述供应管组件34的后方设置有调节盘组件35。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 一种片盒清洗机用CDA供应缓冲装置及方法
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