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申请/专利权人：上海砧源材料科技有限责任公司
申请日：2023-09-05
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN220969173U
主分类号：B01L9/00
分类号：B01L9/00
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权
摘要：本实用新型公开了一种金刚石压砧用平面圆孔立方氮化硼底座，包括金刚石压砧和立方氮化硼底座，所述立方氮化硼底座的中部设有平面圆孔，所述平面圆孔的底部设有圆台孔，所述立方氮化硼底座中部的平面圆孔顶部设有金刚石压砧，所述平面圆孔和圆台孔为一体，所述立方氮化硼底座为圆台形。本实用新型为了给实验带来更高的稳定性，以及更好的压力支撑力，采用平面圆孔立方氮化硼底座有着更高的硬度，更高的屈服强度，利用立方氮化硼材料极高的硬度，给金刚石压砧带来稳定这支撑力，给实验中带来更高的压力和更稳定的加压过程，减少金刚石压砧破损的概率。
主权项：1.一种金刚石压砧用平面圆孔立方氮化硼底座，包括金刚石压砧1和立方氮化硼底座2，其特征在于：所述立方氮化硼底座2的中部设有平面圆孔3，所述平面圆孔3的底部设有圆台孔4。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海砧源材料科技有限责任公司 一种金刚石压砧用平面圆孔立方氮化硼底座
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