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【发明公布】一种高导光UV减粘压敏胶带及其制备方法_苏州世华新材料科技股份有限公司_202410231825.8 

申请/专利权人:苏州世华新材料科技股份有限公司

申请日:2024-03-01

公开(公告)日:2024-06-07

公开(公告)号:CN118146739A

主分类号:C09J7/50

分类号:C09J7/50;C09J7/38;C09D167/00;C09D7/61;C09D7/40

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.07#公开

摘要:本发明涉及压敏胶技术领域,具体为一种高导光UV减粘压敏胶带及其制备方法。本发明制备的高导光UV减粘压敏胶带包括基材,基材的双面均涂布有导光涂层,导光涂层外涂布有UV减粘压敏胶层;其中,基材为透光薄膜基材;导光涂层内均匀散布有单分散二氧化硅微球;本发明设计了带有微网点结构的导光涂层,实现了UV光源从侧面射入即实现减粘的目的,应用场景更为广阔,同时使用的原料种类少,整体结构简单,无需设置过渡层,不仅减小了厚度,还使得生产难度和生产成本显著降低,此外降低了应用局限性,更适用于规模化生产和使用需求。

主权项:1.一种高导光UV减粘压敏胶带,其特征在于:包括基材,所述基材的双面均涂布有导光涂层,所述导光涂层外涂布有UV减粘压敏胶层;其中,所述基材为透光薄膜基材;所述导光涂层内均匀散布有单分散二氧化硅微球以形成微网点结构。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州世华新材料科技股份有限公司 一种高导光UV减粘压敏胶带及其制备方法

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