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【发明公布】一种用于凸点高度测量的图像处理方法_中国科学院微电子研究所_202410301324.2 

申请/专利权人:中国科学院微电子研究所

申请日:2024-03-15

公开(公告)日:2024-06-07

公开(公告)号:CN118154662A

主分类号:G06T7/60

分类号:G06T7/60;G06T7/00

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.07#公开

摘要:一种用于凸点高度测量的图像处理方法,包括:针对所述待处理图像,以按照预设规则确定的目标区域作为光条区域;其中,所述预设规则包括,以所述灰度值之和最大值对应的像素行作为起始像素行,对所述起始像素行的两侧像素行进行依次搜索,直至搜索到灰度值之和为满足预设条件的两个像素行,位于所述两个像素行之间的区域为所述目标区域;针对所述待处理图像中不包括所述光条区域的其他区域,以按照所述预设规则确定的目标区域作为光斑区域;确定所述光斑区域中的光斑以及所述光条区域中光条;根据所述光条和所述光斑确定所述待测物中凸点部分的高度。

主权项:1.一种用于凸点高度测量的图像处理方法,待处理图像为线结构光照射待测物体后,被待测物体反射得到的反射光形成,所述待测物包括平面部分和凸点部分,所述待处理图像包括光斑和光条,所述光斑根据来自所述凸点部分的反射光形成,所述光条根据来自所述平面部分的反射光形成,所述图像处理方法包括:针对所述待处理图像,以按照预设规则确定的目标区域作为光条区域;其中,所述预设规则包括,以所述灰度值之和最大值对应的像素行作为起始像素行,对所述起始像素行的两侧像素行进行依次搜索,直至搜索到灰度值之和为满足预设条件的两个像素行,位于所述两个像素行之间的区域为所述目标区域;针对所述待处理图像中不包括所述光条区域的其他区域,以按照所述预设规则确定的目标区域作为光斑区域;确定所述光斑区域中的光斑以及所述光条区域中光条;根据所述光条和所述光斑确定所述待测物中凸点部分的高度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院微电子研究所 一种用于凸点高度测量的图像处理方法

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