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申请/专利权人：豪夫迈·罗氏有限公司
申请日：2020-04-24
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN113767280B
主分类号：G01N27/00
分类号：G01N27/00;B01L3/00;C12Q1/6869;B82Y15/00
优先权：["20190425 US 62/838565"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.11#授权;2021.12.24#实质审查的生效;2021.12.07#公开
摘要：本文描述了用于在覆盖孔的膜中插入纳米孔的系统和方法。通过建立跨所述膜的渗透梯度而使所述膜向外弯曲，以便驱动流体进入所述孔中，这会增加所述孔中流体的量并使得所述膜向外弯曲。然后便可在弯曲的膜上启动纳米孔插入。
主权项：1.一种在膜中插入纳米孔的方法，所述方法包括：用具有第一渗透压的第一缓冲剂填充孔的孔贮存器，所述孔包含工作电极，其中所述孔是流动池中孔的阵列的一部分；在所述孔的上方形成膜以将所述第一缓冲剂包封在所述孔贮存器内；使具有第二渗透压的第二缓冲剂在所述膜上方流动，使得所述膜位于所述第一缓冲剂与所述第二缓冲剂之间，其中所述第一缓冲剂具有比所述第二缓冲剂更高的渗透压；由于来自所述第二缓冲剂的流体跨所述膜扩散至所述第一缓冲剂中，使所述膜向外弯曲并远离所述工作电极；以及在向外弯曲的膜中插入纳米孔；其中在所述膜中插入所述纳米孔的步骤包括在膜向外弯曲之后或在膜向外弯曲的过程中，使包含所述纳米孔的第三缓冲剂在所述膜的上方流动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 豪夫迈·罗氏有限公司 利用渗透失衡在膜中插入纳米孔的系统和方法
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