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申请/专利权人：浙江兆奕光电有限公司
摘要：本发明涉及半透明浸染技术领域，尤其涉及一种新型VR面罩半透明浸染工艺。其技术方案：包括以下步骤：UV转印、印刷遮蔽胶、镀SiO2、撕遮蔽胶、浸染、清洗和UV固化，使用UV胶水在模板上形成图案，在需要形成透明孔的位置印上遮蔽胶，在透明孔区域镀上一层SiO2，撕掉遮蔽胶，露出透明孔位置，在图案上浸染所需的颜色，清洗多余的染液，使用UV光固化图案。本发明利用浸染工艺可以做到VR面罩的高清晰、高通透、色泽细腻的外观效果，并且利用镀SiO2的方法，对指定位置避免染料的着色，形成透明孔，最终实现在任意位置形成透明孔的目的。
主权项：1.一种新型VR面罩半透明浸染工艺，其特征在于：包括以下步骤：UV转印、印刷遮蔽胶、镀SiO2、撕遮蔽胶、浸染、清洗和UV固化；UV转印：使用UV胶水在模板上形成图案；印遮蔽胶：在需要形成透明孔的位置印上遮蔽胶；镀SiO2：在透明孔区域镀上一层SiO2；撕遮蔽胶：撕掉遮蔽胶，露出透明孔位置；浸染：在图案上浸染所需的颜色；清洗：清洗多余的染液；UV光固：使用UV光固化图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江兆奕光电有限公司 一种新型VR面罩半透明浸染工艺
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