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申请/专利权人：日产化学株式会社

摘要：本发明提供取得了所期望性能的均衡性的涂覆膜。本发明提供涂覆膜形成用组合物、作为其固化物的涂覆膜及其制造方法、以及固化物及其制造方法，所述涂覆膜形成用组合物包含1单体混合物的聚合物、以及2含有下述式E表示的结构的聚碳化二亚胺，所述单体混合物是包含下述式A至D式中，Ta、Tb、Tc、Td、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2、Ub3、Qa、Qb、Qc、Ra、Rb、Rc、Rd、An‑、m及n如说明书及权利要求书所记载表示的单体的单体混合物，相对于前述单体混合物中包含的全部单体而言的、前述式A表示的阴离子性单体及前述式B表示的阳离子性单体的合计比例为40摩尔％以上。

主权项：1.涂覆膜形成用组合物，其包含：1单体混合物的聚合物，所述单体混合物是包含下述式A表示的阴离子性单体、下述式B表示的阳离子性单体、下述式C表示的疏水性单体、及下述式D表示的二官能性单体的单体混合物，相对于所述单体混合物中包含的全部单体而言的、所述式A表示的阴离子性单体及所述式B表示的阳离子性单体的合计比例为40摩尔％以上；以及2含有下述式E表示的结构的聚碳化二亚胺，[化学式42] 式A中，Ta、Ua1及Ua2各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基；Qa表示单键、酯键或酰胺键；Ra表示可被卤素原子取代的碳原子数1至10的直链或支链亚烷基；m表示1至10的整数；[化学式43] 式B中，Tb、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基；Qb表示单键、酯键或酰胺键；Rb表示可被卤素原子取代的碳原子数1至10的直链或支链亚烷基；An-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子；[化学式44] 式C中，Tc表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基；Qc表示单键、醚键或酯键；Rc表示碳原子数1至18的直链或支链烷基、碳原子数3至10的环式烃基、碳原子数6至10的芳基、碳原子数7至14的芳烷基或者碳原子数7至14的芳基氧基烷基其中，所述芳基部分可以被可被卤素原子取代的碳原子数1至5的直链或支链烷基取代；[化学式45] 式D中，Td表示氢原子或碳原子数1至6的直链或支链烷基；Rd表示可被卤素原子取代的碳原子数1至10的直链或支链亚烷基；n表示1至10的整数；[化学式46]-N＝C＝N-E。

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权利要求：

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