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申请/专利权人：攀枝花攀科电子科技有限公司
申请日：2024-03-29
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118201231A
主分类号：H05K3/06
分类号：H05K3/06
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明公开了一种生产PCB板的显影蚀刻工艺，属于PCB加工领域，包括以下步骤：S1、采用预刻蚀剂对PCB板进行预刻蚀；S2、预刻蚀后对PCB板的线路侧壁采用抗蚀剂进行抗蚀处理；S3、抗蚀处理后，采用主刻蚀剂对通过预刻蚀后的PCB板进行刻蚀；所述预刻蚀剂包括以下重量份数的组份：30‑40份柠檬酸、5‑8份EDTA、3‑5份非离子型或阴离子型表面活性剂、1‑3份偶联剂；所述主刻蚀剂包括以下重量份数的组份：40‑50份氯化铁、10‑15份马来酸、10‑15份氨基酸、3‑5份过氧化氢、1‑3份pH调节剂、1‑2份稀土氧化物；所述抗蚀剂为含有双键的树脂及乙二醇二甲醚，乙二醇二甲醚与含有双键的树脂的质量比为1:10。本发明在保证高质量刻蚀效果的同时，解决了测蚀问题。
主权项：1.一种生产PCB板的显影蚀刻工艺，其特征在于：包括以下步骤：S1、采用预刻蚀剂对PCB板进行预刻蚀；S2、预刻蚀后对PCB板的线路侧壁采用抗蚀剂进行抗蚀处理；S3、抗蚀处理后，采用主刻蚀剂对通过预刻蚀后的PCB板进行刻蚀；所述预刻蚀剂包括以下重量份数的组份：30-40份柠檬酸、5-8份EDTA、3-5份非离子型或阴离子型表面活性剂、1-3份偶联剂；所述主刻蚀剂包括以下重量份数的组份：40-50份氯化铁、10-15份马来酸、10-15份氨基酸、3-5份过氧化氢、1-3份pH调节剂、1-2份稀土氧化物；所述抗蚀剂为含有双键的树脂及乙二醇二甲醚，乙二醇二甲醚与含有双键的树脂的质量比为1:10。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 攀枝花攀科电子科技有限公司 一种生产PCB板的显影蚀刻工艺
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