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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2022-10-20
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118202305A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：["20211110 US 63/277,689"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：公开了一种使用系统内公用载物台针对光刻系统中的晶片台和其他部件提供服务功能的设备和方法，其中公用载物台可以访问多个工具而没有打开容纳公用载物台和晶片台以及其他部件的外壳的任何需要，从而提高产量并减少停机时间。
主权项：1.一种光刻设备，所述光刻设备包括：外壳；至少一个对象台，所述至少一个对象台位于所述外壳中并适于在所述外壳中的多个位置之间行进；公用装置，所述公用装置位于所述外壳内的公用区中；和公用载物台，所述公用载物台位于所述外壳中并适于从停放位置行进到所述公用区，所述公用载物台适于将至少一个工具从所述停放位置运送到所述公用区。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于光刻设备的公用载物台以及方法
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