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申请/专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日：2024-03-21
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118192153A
主分类号：G03F1/26
分类号：G03F1/26;G03F1/54
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本说明书实施例提供一种光掩模板二次曝光方法及光掩模板，光掩模板二次曝光方法，包括：对需要第二次曝光的光掩模板进行电子束扫描诱导碳沉积；对上述碳沉积后的光掩模板进行第二次曝光。在光掩模板第二次曝光前，对光掩模进行电子束诱导碳沉积，电子束诱导碳沉积在对位区域图形，图形区域变暗，有助于降低激光透射率、提高反射率，使得进入石英层的激光能量降低到安全阈值以下，避免光掩模板的石英层产生裂纹，可以减少光掩模板的报废率以及提高对位成功率。
主权项：1.一种光掩模板二次曝光方法，其特征在于，包括：对需要第二次曝光的光掩模板进行电子束扫描诱导碳沉积；对上述碳沉积后的光掩模板进行第二次曝光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广州新锐光掩模科技有限公司 一种光掩模板二次曝光方法及光掩模板
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