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X射线分析系统和X射线分析方法 

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申请/专利权人:日本电子株式会社

摘要:一种X射线分析系统和X射线分析方法,针对反映出价带的电子状态的Lα峰70C和Lβ峰70D设定3个ROI:ROI‑c、ROI‑d、ROI‑e。用ROI‑a内的累计值将ROI‑c、ROI‑d、ROI‑e内的累计值标准化,从而求出试样矢量。将试样矢量与对应于多个化合物的多个化合物矢量进行比较,基于类似度最高的化合物矢量,推定出构成试样的化合物。

主权项:1.一种X射线分析系统,其特征在于,包含:生成装置,其生成关于从试样释放出的X射线的光谱;以及分析装置,其基于上述光谱来分析上述试样,在上述光谱中包含由于从相当于外壳的价带向内壳的电子跃迁而产生的第1峰、以及由于内壳之间的电子跃迁而产生的第2峰,上述分析装置包含:计算部,其基于上述光谱来计算反映出上述试样中的化学键的特有的信息;以及分析部,其基于上述特有的信息来分析上述试样,上述分析装置还包含设定部,上述设定部针对上述光谱设定用于评估上述第1峰的第1关注区域和用于评估上述第2峰的第2关注区域,上述计算部通过用上述第2关注区域内的信息对上述第1关注区域内的信息进行标准化来计算上述特有的信息,在上述光谱中包含由于从相当于外壳的价带向内壳的电子跃迁而产生的多个第1峰,上述设定部设定用于评估上述多个第1峰的多个第1关注区域,上述计算部通过用上述第2关注区域内的信息对上述多个第1关注区域内的多个信息进行标准化来计算上述特有的信息,上述多个第1峰是由相邻的2个峰构成的一对第1峰,上述多个第1关注区域是相邻的3个以上的第1关注区域。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 日本电子株式会社 X射线分析系统和X射线分析方法

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