首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

基片处理方法和基片处理装置 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:根据本发明的一方式的基片处理方法包括:用可旋转的基片保持部31来保持基片的工序;在基片的上方配置顶板部41的工序;向基片供给处理液的工序;和向基片与顶板部41之间供给冲洗液Lr来用冲洗液Lr清洗基片和顶板部41的工序。

主权项:1.一种基片处理方法,其特征在于,包括:用可旋转的基片保持部来保持基片的工序;在所述基片的上方配置顶板部的工序;向所述基片供给处理液的工序;向所述基片与所述顶板部之间供给冲洗液来用所述冲洗液清洗所述基片和所述顶板部的工序;和向所述基片与所述顶板部之间供给气氛调节气体的工序,用所述冲洗液清洗的工序中,使所述冲洗液充满所述基片与所述顶板部之间,所述供给气氛调节气体的工序中,随着所述基片的转速变高而使所述气氛调节气体的供给量增加。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东京毅力科创株式会社 基片处理方法和基片处理装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。