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【发明授权】版图的验证方法、装置、设备和存储介质_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202010817453.9 

申请/专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司

申请日:2020-08-14

公开(公告)日:2024-06-14

公开(公告)号:CN112069750B

主分类号:G06F30/3308

分类号:G06F30/3308;G06F30/392

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.14#授权;2020.12.29#实质审查的生效;2020.12.11#公开

摘要:本申请公开了一种版图的验证方法、装置、设备和存储介质,包括:测量版图中的参数图形的图形尺寸,图形尺寸是基于物理参数得到的,物理参数是对版图中的器件进行仿真得到的物理量;根据图形尺寸计算得到物理参数;根据物理参数对版图进行验证。本申请通过测量版图中的参数图形的图形尺寸,根据图形尺寸计算得到物理参数对版图进行验证,由于图形尺寸是由版图中的器件进行仿真得到的物理量得到的,从而解决了相关技术中通过测量器件的图形计算得到物理参数的正确率较低所导致的对集成电路版图的验证的准确率较低,提高了对版图进行验证的准确率。

主权项:1.一种版图的验证方法,其特征在于,所述方法通过EDA程序执行,包括:测量所述版图中的参数图形的图形尺寸,所述图形尺寸是基于物理参数计算得到的,所述物理参数是对所述版图中的器件进行仿真得到的物理量的值,所述物理参数包括电容值、电阻值、电感值、电压值和电流值中的至少一种;根据所述图形尺寸计算得到所述物理参数;根据所述物理参数对所述版图进行验证。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海华虹宏力半导体制造有限公司 版图的验证方法、装置、设备和存储介质

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