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申请/专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日：2023-10-26
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN221149136U
主分类号：G03F1/42
分类号：G03F1/42
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.14#授权
摘要：本实用新型提供了一种光罩，应用于半导体光刻技术领域，包括位于主图形和校准图形，其中校准图形包括呈上下或左右相邻排布的第一“回”字形图形和第二“回”字形图形，且第一“回”字形图形包括位于中间的铬图形层区域或堆叠的硅化钼图形层区域和铬图形层区域，以及位于四周的石英图形层区域，第二“回”字形图形包括位于中间的石英图形层区域和位于四周的铬图形层区域或硅化钼图形层区域，从而让至少两层不同材料层上的图形层区域的图案分别与光罩的每个材料层的材质各自相同，进而在对该形成有特殊结构的校准图形的光罩进行光源校验时，只需对所述校准图形进行对准校验，即可确定出光罩上的三种结构图形下的透光相关系数是否设置合理。
主权项：1.一种光罩，所述光罩包括主图形，其特征在于，在所述主图形的外侧四周的光罩的多个位置上还分别设置有一校准图形；其中，所述校准图形包括呈上下或左右相邻排布的第一“回”字形图形和第二“回”字形图形，且所述第一“回”字形图形包括位于中间的铬图形层区域或堆叠的硅化钼图形层区域和铬图形层区域，以及位于四周的石英图形层区域，而所述第二“回”字形图形包括位于中间的石英图形层区域和位于四周的铬图形层区域或硅化钼图形层区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥晶合集成电路股份有限公司 一种光罩
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