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真空镀膜设备 

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申请/专利权人:安迈特科技(北京)有限公司

摘要:本公开提供一种真空镀膜设备,包括:真空腔体、收放卷辊、蒸发镀膜装置以及至少一个除尘装置。所述收放卷辊设置在所述真空腔体内部,用于传送膜材;所述蒸发镀膜装置设置于所述真空腔体内部,用于接收所述膜材并为所述膜材镀膜;所述除尘装置设置于所述真空腔体内部,所述除尘装置包括:一对侧壁支架以及粘尘辊组件,所述一对侧壁支架正对地设置于所述真空腔体内部;所述粘尘辊组件设置于所述一对侧壁支架之间,用于去除所述膜材表面的杂质。

主权项:1.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括:真空腔体;收放卷辊,所述收放卷辊设置在所述真空腔体内部,用于传送膜材;蒸发镀膜装置,所述蒸发镀膜装置设置于所述真空腔体内部,用于接收所述膜材并为所述膜材镀膜;以及至少一个除尘装置,设置于所述真空腔体内部,每个所述除尘装置包括:一对侧壁支架,所述一对侧壁支架正对地设置于所述真空腔体内部;以及粘尘辊组件,设置于所述一对侧壁支架之间,用于去除所述膜材表面的杂质。

全文数据:

权利要求:

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