申请/专利权人:深圳市杉川机器人有限公司
申请日:2023-11-02
公开(公告)日:2024-06-14
公开(公告)号:CN221129801U
主分类号:A47L11/40
分类号:A47L11/40
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.06.14#授权
摘要:本实用新型公开了一种基站水槽结构、基站和清洁设备。基站水槽结构包括:底座,所述底座设有清洗槽;振动组件,所述振动组件包括振动盘和驱动装置,所述振动盘设置在所述清洗槽内,所述振动盘上设有清洁件,所述清洁件与所述清洗槽的底面和或侧面接触,所述驱动装置连接所述振动盘,所述驱动装置配置为驱动所述振动盘在所述清洗槽内振动,使所述清洁件对所述清洗槽进行清洁。上述基站水槽结构,可以通过驱动装置驱动振动盘在清洗槽内振动,使清洁件可对清洗槽进行清洁,减少残留在清洗槽内的垃圾,避免清洗槽发臭的问题。
主权项:1.一种基站水槽结构,其特征在于,包括:底座,所述底座设有清洗槽;振动组件,所述振动组件包括振动盘和驱动装置,所述振动盘设置在所述清洗槽内,所述振动盘上设有清洁件,所述清洁件与所述清洗槽的底面和或侧面接触,所述驱动装置连接所述振动盘,所述驱动装置配置为驱动所述振动盘在所述清洗槽内振动,使所述清洁件对所述清洗槽进行清洁。
全文数据:
权利要求:
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