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申请/专利权人：研微(江苏)半导体科技有限公司

摘要：本申请提供了一种用于等离子体反应室的基座调整装置，包括：具有水平度调节板和多个水平度调节件的水平度调节机构，多个水平度调节件被配置为调节基座的水平度；包括第一方向调节组件和第二方向调节组件的对中调节机构，第一方向调节组件被配置为沿第一方向调节基座的位置，第二方向调节组件被配置为沿第二方向调节基座的位置；与第二方向调节组件在第二方向上滑动连接的支撑机构，支撑机构被配置为支撑对中调节机构和水平度调节机构；锁紧机构，被配置为锁紧对中调节机构和水平度调节机构。本申请的基座调整装置能够实现对基座的水平度和对中度的快速、精确调节，同时能够提高等离子体反应室射频电流的回流稳定性和重复性，并且还有助于提高锁紧后的基座水平度与锁紧前的基座水平度的一致性。

主权项：1.一种用于等离子体反应室的基座调整装置，所述基座调整装置连接于所述等离子体反应室的基座，所述基座的下方设置有基座支撑轴，其特征在于，包括：水平度调节机构110，包括水平度调节板111和多个水平度调节件112，每个所述水平度调节件112与所述水平度调节板111固定连接，所述基座支撑轴120的一端与所述基座130固定连接，另一端与所述水平度调节板111固定连接，所述多个水平度调节件112被配置为调节所述基座130的水平度；对中调节机构140，位于所述水平度调节机构110的下方，包括第一方向调节组件141和第二方向调节组件142，所述第一方向调节组件141与所述第二方向调节组件142在第一方向上滑动连接，所述第一方向调节组件141被配置为沿所述第一方向调节所述基座130的位置，所述第二方向调节组件142被配置为沿所述第二方向调节所述基座130的位置，所述第一方向和所述第二方向在设定平面呈夹角分布；支撑机构150，位于所述第二方向调节组件142的下方，所述第二方向调节组件142与所述支撑机构150在所述第二方向上滑动连接，所述支撑机构150被配置为支撑所述对中调节机构140和所述水平度调节机构110；以及锁紧机构，被配置为在垂直于所述设定平面的方向上将所述对中调节机构140锁紧至所述支撑机构150，以及将所述水平度调节机构110锁紧至所述对中调节机构140。

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