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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本公开的实施例总体涉及半导体器件制造工艺中使用的系统。更具体地，本文提供的实施例总体包含用于同步并且控制RF偏压信号和脉冲电压波形的输送向等离子体处理腔室内的一个或多个电极的输送的装置和方法。本公开的实施例包含将脉冲射频RF波形与脉冲电压PV波形同步的方法和装置，使得脉冲RF波形在PV波形的第一阶段期间开启并在第二阶段期间关闭。PV波形的第一阶段包含壳层崩溃阶段。PV波形的第二阶段包含离子电流阶段。
主权项：1.一种等离子体处理方法，包含：对设置于基板支撑件中的一个或多个电极施加脉冲电压波形，所述脉冲电压波形包含一系列电压脉冲，每个电压脉冲包含第一阶段和第二阶段；对所述一个或多个电极施加脉冲射频RF波形，以在处理腔室的处理区域中产生等离子体；以及使所述脉冲RF波形与所述脉冲电压波形的每个脉冲同步，使得仅在所述脉冲电压波形的每个脉冲的所述第二阶段的至少一部分期间提供所述脉冲射频RF波形的RF波形。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 在等离子体处理期间用于输送多个波形信号的设备与方法
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