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申请/专利权人：深圳市和科达精密清洗设备股份有限公司
申请日：2023-07-31
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN221166321U
主分类号：C02F9/00
分类号：C02F9/00;C02F101/30;C02F103/04
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.18#授权
摘要：本实用新型涉及水处理技术领域，具体公开了一种含盐量低、电导率低的超纯水净化装置，包括顺序连通的原水箱、多介质过滤器、活性炭过滤器、一级反渗透装置、二级反渗透装置、连续电除盐装置、有机物脱除器、一级抛光混床、二级抛光混床和膜滤器，有机物脱除器输入端与连续电除盐装置输出端连通，一级抛光混床输入端与有机物脱除器输出端连通，二级抛光混床输入端与一级抛光混床输出端连通，膜滤器输入端与二级抛光混床输出端连通。上述超纯水净化装置经初处理后，通过有机物脱除器去除水中有机物，通过一级抛光混床和二级抛光混床提升水质，采用膜滤器滤除水中微粒杂质，净化后，超纯水含盐量和电导率显著降低，能够满足半导体行业的用水要求。
主权项：1.一种超纯水净化装置，包括顺序连通的原水箱、多介质过滤器、活性炭过滤器、一级反渗透装置、二级反渗透装置和连续电除盐装置，其特征在于，还包括有机物脱除器、一级抛光混床、二级抛光混床和膜滤器，所述有机物脱除器的输入端与连续电除盐装置的输出端连通，一级抛光混床的输入端与有机物脱除器的输出端连通，二级抛光混床的输入端与一级抛光混床的输出端连通，膜滤器的输入端与二级抛光混床的输出端连通，膜滤器的输出端输出超纯水；所述一级抛光混床包括串联设置的两组第一抛光混床，每组第一抛光混床包括并联设置的多台第一混床；所述二级抛光混床包括串联设置的两组第二抛光混床，每组第二抛光混床包括并联设置的多台第二混床。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市和科达精密清洗设备股份有限公司 一种超纯水净化装置
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