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【实用新型】一种坡面设计的配向膜印刷版_武汉瑞普赛技术有限公司_202323232832.X 

申请/专利权人:武汉瑞普赛技术有限公司

申请日:2023-11-29

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN221187762U

主分类号:B41F5/24

分类号:B41F5/24;B41F13/10

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权

摘要:本实用新型公开了一种坡面设计的配向膜印刷版,包括:基板和印刷部;所述印刷部的侧面呈斜坡状向下向外延伸至基板面;所述斜坡最高点与印刷部边缘相接,斜坡最低点与基板相接。本实用新型保证了产品的印刷品质,解决了印刷精度偏差和色差的问题,最终提升产品良率,增加收益。

主权项:1.一种坡面设计的配向膜印刷版,其特征在于,包括:基板和印刷部;所述印刷部的侧面呈斜坡状向下向外延伸至基板面;所述斜坡最高点与印刷部边缘相接,斜坡最低点与基板相接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉瑞普赛技术有限公司 一种坡面设计的配向膜印刷版

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